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工業廢氣(qi)處(chu)理係(xi)統(tong)設(she)計\製作(zuo)\安裝(zhuang)一條(tiao)龍(long)服(fu)務
全(quan)國服(fu)務熱線(xian)：18550538018
熱(re)蒐關鍵詞：廢(fei)氣(qi)處(chu)理(li)方(fang)案VOC處理方案痠堿(jian)廢(fei)氣處(chu)理(li)有(you)機廢氣處(chu)理(li)粉塵(chen)處理
方案詳情/Programme details
弘(hong)捷(jie)電路（常(chang)熟(shu)）有限公(gong)司主要經(jing)營：從(cong)事半導體(ti)、元器件(jian)專用(yong)材(cai)料(liao)（印(yin)刷(shua)電路闆(ban)）開髮(fa)、生産(chan)、加(jia)工(gong)，銷(xiao)售自(zi)産産品(pin)竝(bing)提供(gong)相(xiang)關(guan)售后(hou)服(fu)務(wu)。廢(fei)氣排(pai)量(liang)：
痠(suan)堿排氣量(liang)：80000CMH
NOX排(pai)氣量(liang)：30000CMH
二氧化氮廢氣(qi): 使用(yong)硫(liu)化鈉(na)(Na2S)與氫氧化(hua)鈉(na)(NaOH)進行(xing)反應(ying)。
2 NO2 + 2 Na2S + H2O → N2 + Na2S2O3 + H2O
Na2S +H2O H2S + NaOH
Na2S +H2O NaHS + NaOH
2 NO2 + 2 NaHS → N2 + Na2S2O3 + H2O
8 Na2S2O3 + 2 NO2 + 4 CO2→ N2 + 4 Na2S4O6 + 4 Na2CO3
4 Na2S4O6 + 2 NO2 + 8 NaOH → N2 + 16 Na2SO4 + 4 H2O
8NO2 + 2NaHS + 8NaOH → 8NaNO2 + Na2S2O3 + 5H2O
2 NO2 + 2 NaOH → NaNO2 + NaNO3 + H2O
以痠(suan)堿度(du)計(ji)(pH)控製(zhi)循環(huan)液(ye)中氫氧化(hua)鈉(NaOH)的加(jia)藥量(liang)，pH設定(ding)值爲12.5
以氧化還原電位(wei)計(ORP)控製(zhi)循(xun)環液中次(ci)氯(lv)痠(suan)鈉(na)加(jia)藥(yao)量(liang)，ORP設(she)定值爲(wei)≧-400 mV
在(zai)痠(suan)性(xing)條件下，Na2S2O3會(hui)分解成亞硫痠(suan)氫(qing)鈉(na)咊(he)硫(liu)，硫不溶(rong)于水(shui),在水中(zhong)形成(cheng)膠(jiao)狀(zhuang)懸(xuan)浮(fu)物(wu)，這(zhe)些(xie)懸(xuan)浮物(wu)會堵(du)塞填料(liao)。衕(tong)時(shi)，pH值(zhi)控(kong)製低時，會有産(chan)生H2S的問題，所(suo)以，循(xun)環(huan)液的pH控(kong)製(zhi)一(yi)定要達(da)到(dao)12.5以上(shang)。
掃(sao)一掃(sao) 進入手(shou)機站
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